国际最先进中国5nm刻蚀机，拟200多台进入台积电供应链

科技摆乾坤 2019-12-13 23:21:24

众所周知，芯片制造的难度相当大，制造过程需要1000多个工艺步骤，其中晶圆制造是芯片制造中最重要的步骤，而晶圆制造最核心的设备就是光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备，这三种设备被称为晶圆制造的三大关键设备，占芯片制造所有环节的78%，其中刻蚀机占比为30%。目前，芯片制造行业最先进台积电，已经进入到先进的5nm制程工艺，明年将为华为、苹果制造5nm工艺制程的芯片。在芯片制造过程中除了要使用ASML的EUV极紫外光科技之外，还要用到至关重要的刻蚀机，而当前国际上最先进、拥有5nm工艺的的刻蚀机在中国，那就是中国的中微半导体简称中微电子。

《芯片世界的微观雕刻者：中国5nm刻蚀机，成功进入台积电供应链》中微电子是一家中国创业板的上市公司，拥有先进的第三代CCP等离子刻蚀机和ICP等离子刻蚀机。刻蚀机与光刻机不同，被称为芯片世界的微观雕刻者，刻蚀机的作用是按照光刻机事先在硅片上刻好的电路，按照硅片上的电路进行微观雕刻，，要求加工精度达到头发丝的几万分之一。近年来，中微电子成功进入了台积电的7nm刻蚀机供应链，总计有200多台刻蚀机进驻台积电，目前，正在CCP介质刻蚀机5nm工艺制程上与台积电展开合作，准备为华为和苹果生产5nm芯片。要知道荷兰最先进极紫外光刻机可以生产5nm制程的芯片，但是还需要相应的刻蚀机也要具备5nm刻蚀工艺，否则也无法生产出来先进的5nm芯片。

特别值得一提的是，台积电为了甩开竞争对手三星的追赶，加快了5nm芯片的研发速度，正加大投资计划2021年左右达到3nm工艺制程的要求。而三星今年也投资了180亿，和ASML签订了15台最先进的EUV极紫外光刻机的供货合同，憋着一股劲，想要跨过5nm制程直接进入3nm制程工艺。这就要求中微电子要同步加快3nm工艺研发速度，以保持刻蚀机在行业内的领先程度。

当然，中微电子能有今天这样的发展成就，是与中微电子的总裁尹志尧的努力分不开的。中微电子是由当时60岁尹志尧和15位硅谷半导体设备产业的华裔工程师一起创办的，公司经过15年的发展，已经获得了200多项美国专利，建立了由美国和世界一流芯片人才组成的研发和管理团队，至今为止已在台湾、韩国、日本、新加坡等地设置了分公司，2018年营业收入完成了17亿，计划2020年营业收入达到20亿以上的目标。